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GAS BOX 多元气体盘面
应用领域：一种用于半导体干法设备中的通用子系统，主要用于CVD/PECVD/MOCVD/ICP/ALD等设备上
关键词：GAS BOX 多元气体盘面
所属分类：
应用领域：一种用于半导体干法设备中的通用子系统，主要用于CVD/PECVD/MOCVD/ICP/ALD等设备上
工艺应用：MFC精准控制流量，调压阀控制压力，过滤器终端过滤
客户类型：半导体芯片制造， 平板显示行业， 太阳能电池， 电子元器件制造等行业
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参数名称 |
详细规格 |
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混气类型： |
四元气体或者多元气体 |
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盘面尺寸： |
1/4”，1/2” |
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介质名称： |
SiH4,NH3,N2O,H2等 |
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基础功能： |
自动吹扫，自动抽真空，自动切换，自动关断，触摸屏操作 |
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通用性选配功能： |
根据客户定制箱体盘面 |
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介质性选配功能： |
盘面加热 |
- 产品描述
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应用领域：一种用于半导体干法设备中的通用子系统，主要用于CVD/PECVD/MOCVD/ICP/ALD等设备上
工艺应用：MFC精准控制流量，调压阀控制压力，过滤器终端过滤
客户类型：半导体芯片制造， 平板显示行业， 太阳能电池， 电子元器件制造等行业
参数名称
详细规格
混气类型：
四元气体或者多元气体
盘面尺寸：
1/4”，1/2”
介质名称：
SiH4,NH3,N2O,H2等
基础功能：
自动吹扫，自动抽真空，自动切换，自动关断，触摸屏操作
通用性选配功能：
根据客户定制箱体盘面
介质性选配功能：
盘面加热
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