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LDS 液态源输送设备
应用领域：半导体材料输送系统，主要通过载气，将液态源半导体材料高精度，安全，稳定的输送到制程设备
关键词：LDS 液态源输送设备
所属分类：
应用领域：半导体材料输送系统，主要通过载气，将液态源半导体材料高精度，安全，稳定的输送到制程设备
工艺应用：液态源不间断输送，载气辅助输送，MFC控制流量
客户类型：半导体芯片制造， 平板显示行业， 太阳能电池， 电子元器件制造等行业
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参数名称 |
详细规格 |
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供应类型： |
单瓶+缓冲罐，双瓶 |
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盘面尺寸： |
1/4”，1/2” |
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介质名称： |
TMA,TEOS,TEB,TEPO,MTS,TCS,Sicl4,Ticl4等 |
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基础功能： |
自动吹扫，自动抽真空，自动切换，自动关断，触摸屏操作 |
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通用性选配功能： |
废液罐，双瓶供应（源液瓶），1+1双瓶（原液瓶+缓冲罐）供应 |
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介质性选配功能： |
电子称，钢瓶加热，盘面加热，脱氦装置 |
- 产品描述
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应用领域：半导体材料输送系统，主要通过载气，将液态源半导体材料高精度，安全，稳定的输送到制程设备
工艺应用：液态源不间断输送，载气辅助输送，MFC控制流量
客户类型：半导体芯片制造， 平板显示行业， 太阳能电池， 电子元器件制造等行业
参数名称
详细规格
供应类型：
单瓶+缓冲罐，双瓶
盘面尺寸：
1/4”，1/2”
介质名称：
TMA,TEOS,TEB,TEPO,MTS,TCS,Sicl4,Ticl4等
基础功能：
自动吹扫，自动抽真空，自动切换，自动关断，触摸屏操作
通用性选配功能：
废液罐，双瓶供应（源液瓶），1+1双瓶（原液瓶+缓冲罐）供应
介质性选配功能：
电子称，钢瓶加热，盘面加热，脱氦装置
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